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低溫多晶硅

低溫多晶硅

低溫多晶硅的工作原理

  •   低溫多晶硅制程是利用準(zhǔn)分子雷射作為熱源,雷射光經(jīng)過(guò)投射系統(tǒng)後,會(huì)產(chǎn)生能量均勻分布的雷射光束,投射于非晶矽結(jié)構(gòu)的玻璃基板上,當(dāng)非晶矽結(jié)構(gòu)玻璃基板吸收準(zhǔn)分子雷射的能量后,會(huì)轉(zhuǎn)變成為多晶硅結(jié)構(gòu),因整個(gè)處理過(guò)程都是在600℃以下完成,所以一般玻璃基板皆可適用。

低溫多晶硅的優(yōu)點(diǎn)

  •   1、 把驅(qū)動(dòng)IC的外圍電路集成到面板基板上的可行性更強(qiáng);

      2、 反應(yīng)速度更快,外觀尺寸更小,聯(lián)結(jié)和組件更少;

      3、 面板系統(tǒng)設(shè)計(jì)更簡(jiǎn)單;

      4、 面板的穩(wěn)定性更強(qiáng);

      5、 解析度更高。

低溫多晶硅的技術(shù)特點(diǎn)

  •   低溫多晶硅技術(shù)主要特點(diǎn)在於改變液晶構(gòu)造以提昇傳統(tǒng)非晶矽液晶技術(shù)性能及降低制造成本。由于LTPS技術(shù)可提升電子遷移率達(dá)200(cm2/V-sec),有利於TFT元件小型化,并提高面板開口率,使得顯示亮度增加、降低耗電率。此外,低溫制程有利于使用玻璃基板,而可大幅降低生產(chǎn)成本。

低溫多晶硅的應(yīng)用

  •   低溫多晶硅面板主要生產(chǎn)大廠有三洋、東芝、松下、ST-LCD、富士通、Seiko-Epson及Sony等多家國(guó)際廠商。目前在攜帶型資訊產(chǎn)品、數(shù)位相機(jī)、監(jiān)視器、投影機(jī)等產(chǎn)品上都可應(yīng)用低溫多晶矽面板。

提問(wèn)者:nvywyer 地點(diǎn):- 瀏覽次數(shù):7039 提問(wèn)時(shí)間:01-21 00:17
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